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EVEN IJP AOI
發(fā)布時(shí)間：2025-02-21 19:03 作者：admin 次數(shù)：次
詳細(xì)介紹
適用基于 8.6G代線 EVEN IJP AOI; 精度 5.0 [um]；節(jié)拍 180.0 [sec] Micro 檢測(cè)單元、Macro 檢測(cè)單元 回看單元、WSI 單元
關(guān) 鍵 特 征
N2 腔室 Micro 檢測(cè)
-為氮?dú)猸h(huán)境檢查，增加聯(lián)鎖和設(shè)備安全功能
DAM 溢出 檢測(cè)
-使用取樣方法檢查油墨溢出情況
Mura 檢測(cè)
-增加了用于檢測(cè)線狀Mura、點(diǎn)狀Mura、環(huán) 狀Mura和橙色Mura的光學(xué)系統(tǒng)和程序。
關(guān) 鍵 特 征
N2 腔室 Micro 檢測(cè)
-為氮?dú)猸h(huán)境檢查，增加聯(lián)鎖和設(shè)備安全功能
DAM 溢出 檢測(cè)
-使用取樣方法檢查油墨溢出情況
Mura 檢測(cè)
-增加了用于檢測(cè)線狀Mura、點(diǎn)狀Mura、環(huán) 狀Mura和橙色Mura的光學(xué)系統(tǒng)和程序。
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